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METROPOLE-3D: An Efficient and Rigorous 3D Photolithography Simulator METROPOLE-3D: 효율적이고 엄격한 3D 포토리소그래피 시뮬레이터

Andrzej J. STROJWAS, Xiaolei LI, Kevin D. LUCAS

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요약 :

본 논문에서는 기존 엔지니어링 워크스테이션에서 적당한 속도로 실행되도록 설계된 엄격한 벡터 3D 리소그래피 시뮬레이터 METROPOLE-3D를 제시합니다. METROPOLE-3D는 Maxwell의 방정식을 3차원에서 엄격하게 풀어 비수직 입사광이 비평면 구조에서 산란되고 전송되는 방식을 모델링합니다. METROPOLE-3D는 포토마스크 시뮬레이터, 노출 시뮬레이터, 노출 후 베이킹 모듈, 3D 개발 모듈 등 여러 시뮬레이션 모듈로 구성됩니다. 이 시뮬레이터는 반사 노칭 문제 및 반사 방지 코팅(ARC) 레이어 최적화를 포함한 레이아웃 인쇄 가능성/제조 가능성 분석과 같은 최첨단 VLSI 제조 공정에서 직면하는 광범위한 프레싱 엔지니어링 문제에 적용되었습니다. 마지막으로 엄격한 시뮬레이터를 사용하여 XNUMXD 오염-결함 변환 연구가 성공적으로 수행되었습니다.

발행
IEICE TRANSACTIONS on Electronics Vol.E82-C No.6 pp.821-829
발행일
1999/06/25
공개일
온라인 ISSN
DOI
원고의 종류
Special Section INVITED PAPER (Special Issue on TCAD for Semiconductor Industries)
범주

작성자

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