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Chemical Stability of SrBi2Ta2O9 Thin Films Prepared by Metalorganic Chemical Vapor Deposition SrBi의 화학적 안정성2Ta2O9 금속유기화학증착법으로 제조된 박막

Norimasa NUKAGA, Masatoshi MITSUYA, Hiroshi FUNAKUBO

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요약 :

유기금속화학기상증착법(MOCVD)을 통해 제조된 다양한 Bi 함량의 다결정 Sr-Bi-Ta-O 박막의 구성 원소의 화학적 안정성을 X선 광전자 분광법(XPS)을 통해 조사하였다. 또한, 다결정 필름에서 결정립계의 영향을 추정하기 위해 에피택셜 필름의 특성도 조사되었습니다. 따라서 Bi 요소만 Bi에서 대폭 변경되었습니다.3+ 상태를 Bi에게0 하나는 Ar 스퍼터링에 의한 것입니다. 이러한 변화는 필름의 Ta/Bi 몰비가 0.64에서 1.67로 증가함에 따라 증가했습니다. 이 결과는 다결정 필름뿐만 아니라 에피택셜 필름에서도 관찰되었으며, 이는 결정립계가 아닌 결정립 특성임을 시사합니다. 필름의 안정성과 누출 특성은 필름의 구성 요소에 따라 크게 달라집니다.

발행
IEICE TRANSACTIONS on Electronics Vol.E84-C No.6 pp.791-795
발행일
2001/06/01
공개일
온라인 ISSN
DOI
원고의 종류
Special Section PAPER (Special Issue on Nonvolatile Memories)
범주
FeRAM

작성자

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